制藥廠不同處理單元和處理環(huán)節(jié)產生的主要惡臭污染物種類和濃度不盡相同，差別很大。發(fā)酵是制藥生產過程中的一個重要生產流程，在此過程中會產生大量的惡臭氣體，因此發(fā)酵塔污染物總濃度高于污水處理站的污染物總濃度。發(fā)酵塔臭氣濃度是污水處理站的 1. 5 倍，由于惡臭的特殊性，產生惡臭的主要物質往往是那些閾稀釋倍數(shù)較高的惡臭物質，但是也不能完全斷定閾稀釋倍數(shù)*高的惡臭物質對臭氣的貢獻*大.所以，綜合實測數(shù)據和以上分析，篩選了發(fā)酵塔和污水處理站兩個處理單元質量濃度前 5名的物質和閾稀釋倍數(shù)前 5 名的物質見表 2.初步識別制藥廠特征污染物如下： 發(fā)酵塔： 乙醇、丙酮、戊烷、2,3-二甲基丁烷、甲基異丁酮和對-二乙苯； 污水處理站： 乙醇、2,3-二甲基丁烷、3-甲基己烷、2,4-二甲基戊烷和對-二乙苯。對于某些污染源臭氣濃度較大而測得的污染物質較少或閾稀釋倍數(shù)較低的情況，由于現(xiàn)階段實驗儀器和測試水平的限制，有很多污染物質均為低于檢出限，而這些物質也許是貢獻臭氣濃度的主要物質，需要進一步篩選進行下一步研究。
武漢時泰環(huán)保科技有限公司是一家以廢氣惡臭氣體的凈化治理的環(huán)保新型科技公司，以專業(yè)的角度從廢氣工況調查、凈化方案設計、設備選型、工程施工安裝、系統(tǒng)調試以及廢氣排放檢測等所有工作提供咨詢及指導。根據以往的項目經驗和本身的研發(fā)成果，以對制藥行業(yè)的廢氣了解，*終自主研發(fā)的ST-PI系列光離子解廢氣凈化設備（該設備以獲得國家實用新型專利（專利號：ZL 2012 2 0413160.5）），其原理利用高能UV紫外線光，裂解惡臭物質分子及空氣中的氧分子產生游離氧，與其氧分子結合產生臭氧。通過高能紫外線及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同光解氧化作用。使惡臭物質降解轉化成低分子化合物。例：水，二氧化碳。可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理。 |
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