鈦 靶
一、牌號(hào)
國(guó)內(nèi)牌號(hào)：TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC11 。
美標(biāo)牌號(hào)：GR1、GR2、GR7、GR12。
二、靶材的主要性能要求:
（1）純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。
（2）雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
（3）密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
（4）晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
三、加工工藝
鍛造、軋制。
四、表面
車光、倒角。表面清潔光滑，無(wú)起皮，氣孔，裂紋等缺陷。
五、規(guī)格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見(jiàn)，其他規(guī)格可按客戶要求制作。
六、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
國(guó)標(biāo)：GB/T 16598，GB/T2965 。
美標(biāo)：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
七、檢測(cè)
破壞性檢測(cè)：物理性能測(cè)試，硬度測(cè)試，化學(xué)成分測(cè)試。
無(wú)損檢測(cè)：超聲檢測(cè)，滲透檢測(cè)，外觀檢測(cè)。 |
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